在中国，尽管有华为等公司尝试自主研发光刻机，但目前还没有完全成熟的商业光刻机。虽然中国在半导体行业拥有很大的潜力和影响力，但当前还无法完全替代外国先进设备和技术。我们还需要继续努力，以确保中国在半导体领域的领先地位。
国产光刻机已经能够实现90nm工艺，而荷兰ASML的主流产品是7纳米级别的光刻机，这使得中国拥有了在全球范围内进行高端技术研发和应用的优势，中国还在积极探索和研发新型的高端光刻机，以满足未来更高分辨率、更大面积的芯片制造需求。
虽然国产光刻机的性能和数量还有待提高，但其已经开始在全球范围内占据一席之地，展现出了强大的竞争力，随着中国科技事业的不断发展和创新，相信国产光刻机将会得到更大的发展和应用。
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