《大国重器》第二季我国7NM芯片已经做出来了，这个距离上市还有多远_上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗

《大国重器》第二季我国7NM芯片已经做出来了，这个距离上市还有多远

现在所有的制造都离不开电脑控制，而其最基础的就是芯片，芯片及操作系统都是美国人发明的，就是说国内现在有研究芯片，它其实都是基于美国的底层技术去做的。这些底层技术都是有专利的，就是像谷歌的开源操作系统，也会有一些限制。

所以说起汉语为基础，从目前来看，根本研发不出有完全自主知识产权的芯片。因为芯片涉及非常强大的物理，计算机的知识，还需要有强大的精密机床制造技术。

这也是为什么使用同样的材料，为什么中国国内造不出同发达国家相同品质的产品。

正如郭台铭讲，工艺达到99%是有可能的，但也达到99.8%,99.9,99.999可能需要几十年的时间去打磨。

有人评论说，大概再有100年，都不会有中国的芯片出现。因为世界范围内目前为止只有美国才能独立制造出完全自主芯片。

[cp]中美战争早已打响!仅仅把目前的斗争视为贸易战经济战外交战政治战科技战，显然是极端错误的判断!这只是军事战的序幕，至少和当年苏美斗争的性质是一样的，最后演化为军事摊牌并非危言耸听，因此，中国必须防患于未然，作好充分准备，一旦开战，便应有鱼死网破的决心和实力。 [/cp]

上海微电子能在2025年前攻克7nm光刻机吗

我想问题问的应该是攻克EUV光刻机吧？很可惜，直到现在，28nm的DUV光刻机都没有研制成功。更不用说精度要求更高一个数量级的EUV了。我觉得问题还是于一个是上海微的基础薄弱，研制能力还是不够，受到资金人才和技术的限制。二是配套的国产配件生产达不到要求，国外的限购，国内的技术水准低。所以这是一个系统工程，要多个方向一起发力攻关才行。所以，2025年能攻克28nm的DUV光刻机就算胜利了

我们国人还有问能不能在2025年前攻克 5 纳米光刻机的呢，是不是与中国芯片自给率到2025年达到70%的要求有关？肯定与心里格外焦急有关，更有关，急不可待似的！是啊，国内能设计出7纳米、5纳米芯片，却被断了相应的代工；国内能制造出7纳米芯片，却被断了必需的7纳米光刻机，怎能不格外焦急呢！国内没有攻克高端光刻机，无疑是国产高端芯片“绝版”的核心原因；如果能在2025年前攻克，其它高端国产工艺设备就一定能全都提前地攻克了，目前都是中端的。

我们难以确定地回答我们国内能在将来的哪一年攻克7纳米光刻机。因为，有关上海微电子的信息不多，尤其内容具体的信息不多、笼统的多，来源确定的不多、“猜测”的多，有人说是由于保密，应该不是吧？有关其配套的国内制造厂家和研发机构的信息也不算多，另外还有 1 个共同点，就是新的信息不多、“旧的”多，加一起，就是有关国产光刻机发展现状的信息不多，确定、新颖的也不多，相比之下，有关上世纪发展状况的信息够多、够细、够实。

即使是上海微电子，也难以确定地回答具体能在将来的哪一年攻克7纳米光刻机！这很客观。即便是我们国家，也不过是曾用“规划”的方式提出了在2030年实现高端光刻机国产化的目标。攻克光刻机是个“技术事”，技术方面的事本来就是不确定的，由太多不确定的因素造成，何况光刻机技术那么复杂，更何况，只有高端的光刻机才称得上是真正意义上的“人类工业皇冠上的明珠”之一！ 另一个称得上的是一流的航空发动机，按被赋予的称呼，摘取的技术难度都是最大的，唯二！至今分别只被荷兰和美国摘取了，荷兰是与多个国共同攻克高端光刻机的，美国可以说是单独攻克一流航空发动机的，这让人看上去，像是到如今人类工业皇冠上仅仅有 2 颗明珠似的。那拿下中端和低端光刻机的国家呢？不止 1 个，我国已经是拿下低端的之一，即将是拿下中端的之一。其实，人类工业皇冠上的明珠不是有 2 颗，而是有 2 种， 1 种当中不止有 1 颗，我们中国在将来一定能在 2 种当中分别摘下来 1 颗！

即便是我们，也可以确定地说按传统技术路线走，在2025年前不能攻克7纳米光刻机。上海微电子按照传统技术路线，即将攻克28纳米光刻机，跨越式的，应该是在攻克90纳米光刻机的2016年前就已经“起跳”了，通过预先研究获得了技术积累和储备，如果真的在2022年越过28纳米，让中端国产光刻机落地，够快，关键是让我们国内在2022年就具有了中端光刻机的技术基础和制造能力，然而，技术基础和能力虽然不过才这么高，却是至少历经 6 年以上时间才达到的，而从2022年里到2025年前是多少年？所以，国内业内和业外公开的主流看法一直都是不能在短期内就攻克7纳米光刻机。中科院也是这么看的，公开说在极紫外光刻机方面还有很长的路要走，已部署新技术路线光刻机的研制，说法和部署一定都是在论证之后提出、做出的，而选择新技术路线一定是认为只有这样才能更快地攻克，会不会之前也有了一定的“新路线”技术积累和储备？特别是，能不能在2025年前攻克呢？中科院是在2020年9月16日公开宣布进入光刻机战场的，一进场就直奔高端光刻机而去。

我们还可以确定地说，上海微电子在2025年前能为攻克7纳米光刻机奠定一定的技术基础、提供一定的制造能力。在攻克28纳米光刻机的2022年前，应该已经有了基于自己和包括中科院在内的其他国内研发机构按传统技术路线研发而取得的高端技术积累和储备，在2025年前肯定还能积累、储备一些，但是，肯定还奠定不起来、提供不上来高端光刻机所必需的整个技术基础和全部制造能力，并且，应该只能是整机集成方面的积累和储备吧，按到目前为止的信息，上海微电子一直以来，在光刻机产品上只是贡献了整机集成这个方面的关键技术和关键能力，没听说像ASML那样曾经另外攻克了关键部件之一——双工作台。

国内配套的部件制造厂家和研发机构呢？到目前为止的信息表明，相对于上海微电子的整机集成技术积累和储备，在包括但不局限于“三大核心部件”的高端部件技术方面的积累和储备不是“一定的”，而是厚实的、全面的，并且还高于、早于上海微电子的，特别是还形成了一定的关键部件制造能力，在2025年前一定能更为厚实、全面一些，制造能力一定能再提升一些，也就是，到2025年前，应该不止是有更多的高端部件技术积累和储备，而是为攻克高端光刻机奠定了“更高的”高端部件技术基础和制造能力。我刚刚还在今日头条看到了昨天晚上发出的一条新信息，某知名科技领域创作者说最近我国在光源和光学镜头方面都取得了突破，双工作台技术也在去年打破了ASML的垄断，因此认为“已经越来越接近EUV光刻机的核心了”。而我，在这里之所以说高端部件技术基础和制造能力到2025年前能是“更高的”却没说能是“足够的”，是因为根据到目前为止的信息，高端部件技术还没有多少已经转化为高端部件产品，转化中、待转化和概念性的高端部件技术加一起仍然占多数，而这一切在量和质上，到2025年前难能有突飞猛进式的变化，技术向来就不能在短时间内取得新进展、获得新突破。

按“多个国”分别历经10年、15年攻克7纳米光刻机的原型机和量产机这 2 个既有的历史事实，也可以确定地说上海微电子和配套的制造厂家与研发机构不能在2025年前攻克，连7纳米的原型机都不可能。将来一定能！甚至，能同跨越式地攻克28纳米量产光刻机一样，跨过14纳米及其以下，越过7纳米，但怎么也得 8 年、10年，最晚能在2032年前吧，这就称得上奇迹了，毕竟是“一国造”！我们中国人也确实是创造过不少奇迹，在光刻机领域就是，我们国内在1952年就起步相关技术的研发了，通过自加压力、自主研发，在1985年前，攻克了较多先进技术，攻克了较多先进产品，先进程度曾经仅仅低于美国这一个国。